Seu fornecedor profissional de equipamentos de gravação iônica

 

A Anhui Chunyuan Coating Technology Co., LTD., fundada em 2014, é uma empresa estatal de-alta{4}}tecnologia e uma nova empresa provincial especializada fundada pela equipe que retornou de Cingapura e se tornou a única-líder de industrialização de equipamentos de revestimento de íons puros de alta qualidade e serviços de nanorrevestimento na China.

Nossa empresa oferece uma ampla variedade de equipamentos de revestimento PVD e CVD, incluindo séries de equipamentos de revestimento a vácuo de íons multi-arco (revestimento de íons puros), séries de equipamentos de revestimento a vácuo por pulverização catódica com magnetron e séries de equipamentos de revestimento por evaporação de elétrons.

 
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Por que nos escolher
 

grande escala ecterprise

A empresa possui uma equipe experiente especializada em design, pesquisa e desenvolvimento (P&D), produção e estratégia de mercado, com domínio das principais tecnologias.

Ampla aplicação de tecnologia

Nossa empresa possui ampla experiência em produção que abrange vários anos. Aderindo a uma abordagem-centrada no cliente e a uma filosofia de cooperação ganha-ganha, cultivamos uma estrutura operacional madura e robusta.

produção padronizada

Fornecemos serviços de consultoria no local 7x24{2}}horas, entendendo completamente os requisitos detalhados de nossos clientes e fornecendo soluções de equipamentos personalizadas para atender às suas necessidades específicas de capacidade de produção.

 

 

Parâmetro

 

 

Gravação de Gás:

Ar, O₂

Fonte de energia:

380 V/50 Hz, 10 kW

Sistema de vácuo:

Bomba molecular com pressão base menor ou igual a 5,0×10⁻⁴ Pa

Personalização:

O tamanho da câmara e as dimensões externas podem ser adaptados às necessidades do cliente.

 

Benefícios do equipamento de gravação iônica

Processamento em-baixa temperatura:

O equipamento de gravação iônica opera em temperaturas ultra{0}}baixas, minimizando o estresse térmico e evitando a deformação do substrato. Esse recurso é fundamental para materiais delicados, como polímeros e óptica de precisão.

Taxa de gravação ajustável:

A distância entre a fonte de íons e o substrato pode ser ajustada dinamicamente por meio de uma plataforma rotativa-com altura ajustável, permitindo controle preciso sobre a velocidade de gravação (até 30 nm/min) para atender a diversos requisitos de processo.

Thin Film Etching Equipment
等离子蚀刻薄膜设备

Alta uniformidade:

Equipado com fontes de feixe de íons patenteadas e tecnologia de descarga avançada, o equipamento gera plasma de alta-densidade, garantindo gravação uniforme e resultados consistentes em substratos de até 800 mm de diâmetro.

Funcionalidade-dupla:

Além da remoção de filme, esse sistema pode ser personalizado para aplicações multifuncionais, incluindo limpeza de superfícies e pré{0}}tratamento para processos de revestimento subsequentes.

 

 

A diferença entre equipamento de gravação iônica e máquina de gravação química

Um equipamento de gravação iônica é um dispositivo que utiliza plasma para gravar ou remover material de um substrato polimérico, óxido, metal, vidro ou cerâmica. O plasma é um gás altamente ionizado que pode ser usado para limpar, gravar e depositar materiais em superfícies.

A gravação química é o processo de utilização de produtos químicos para remover material de um substrato. A gravação química é frequentemente usada para remover metais de placas de circuito impresso (PCBs) e outros componentes eletrônicos. Também pode ser usado para criar padrões e formas em superfícies metálicas. A gravação fotoquímica é um processo de fabricação versátil que oferece muitas vantagens em relação aos métodos de usinagem tradicionais.

A gravação por plasma é um processo mais preciso e controlado do que a gravação química. A gravação a plasma pode ser usada para remover filmes muito finos de material, tornando-a ideal para aplicações onde é necessária alta precisão.

Tanto a gravação por plasma quanto a gravação química têm suas vantagens e desvantagens. O melhor processo para uma aplicação específica depende dos requisitos do projeto.

等离子清洗机

 

 

Condições de envio e pagamento

 

 

Termos de pagamento

Geralmente aceitamos T/T, L/C, Paypal, cartão de crédito, etc. Se você preferir outras condições de pagamento, sinta-se à vontade para discutir conosco.

Envio

Oferecemos vários métodos de envio, incluindo frete marítimo, frete aéreo e entrega expressa, dependendo do tamanho do pedido e do destino.

 

 

Perguntas frequentes

 

 

P: O que é uma máquina de limpeza de plasma?

R: Os sistemas de limpeza a plasma podem ser usados ​​para uma variedade de finalidades de limpeza de superfícies antes do processamento. É eficiente para remover a oxidação superficial e limpar resíduos minerais das superfícies. Também é utilizado na preparação de superfícies de plásticos e elastômeros, bem como na limpeza de cerâmicas.

P: O que a limpeza com plasma remove?

R: A limpeza por plasma remove a contaminação orgânica por meio de reação química ou ablação física de hidrocarbonetos nas superfícies tratadas.

P: Como funciona a limpeza do plasma?

R: Esta técnica utiliza plasma para gerar íons/elétrons energéticos ou radicais reativos para remover contaminações na superfície ou ativar/gerar grupos funcionais na superfície. As propriedades únicas do plasma o tornam altamente eficaz para modificação de superfícies, incluindo limpeza, ataque químico e ativação.

P: Qual é a temperatura da limpeza do plasma?

R: A temperatura média do jato de plasma é de aproximadamente 200-250 graus. Com a configuração adequada de distância e taxa, uma temperatura de superfície de cerca de 70 - 80 graus é alcançada. Esta tecnologia pode, portanto, ser utilizada para todos os materiais padrão (metais, cerâmicas, vidro, plásticos, elastômeros).

Somos-conhecidos como um dos principais fabricantes e fornecedores de equipamentos de gravação iônica na China. Se você for comprar equipamento de gravação iônica personalizado feito na China, bem-vindo para obter a lista de preços de nossa fábrica. Para consulta de preços, contacte-nos.

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