Descrição do equipamento:
· Introdução ao equipamento:
O equipamento de filme fino da magnetron Sputtering está usando a tecnologia de núcleo maduro da empresa: limpeza de alta energia de ionbeam + fonte de pulverização de magnetron (pulverização de magnetron), o equipamento adota controle automático completo, otimização integrada modular, alta potência do equipamento, desempenho estável, operação simples e manutenção fácil. Para atender a diferentes necessidades de revestimento, a câmara pode ser projetada e configurada com uma variedade de alvos, como alvos circulares planares, alvos de tira e alvos cilíndricos, e pode obter filmes compostos de várias camadas com alta densidade e bom desempenho uniforme, incluindo vários metais, componentes eletrônicos, materiais ferromagnéticos. O equipamento de filme fino da Sputtering Sputtern é adequado para o desenvolvimento de revestimento e serviços de revestimento em lote.
·Vantagens de equipamentos:
Express Magnetron Sputtering Film Film Equipment possui uma tecnologia de núcleo exclusiva, campo magnético especialmente projetado e caminho de processo de processo, melhorando efetivamente a taxa de utilização do alvo e a estabilidade do processo a longo prazo;
Expresse a interface universal modular, diretamente compatível com diferentes formas de alvos de cátodo, permitindo o pulso de CC, se, modo de trabalho de RF; Forte compatibilidade;
Expresse o sistema operacional de processo inteligente automático auto-designado fornece recursos abrangentes e convenientes de fórmula de fórmula de processo, equipados com sistema de monitoramento de parâmetros de processo em tempo real, permitindo o controle remoto on-line.
Campo de aplicação:
Express Magnetron Sputtering Film Film Equipment pode ser banhado Cu, Au, Cr, Ni, Ta, Tin, Tic, Ticn, Tialn, CRN e outros óxidos de metal, não metal e cerâmica de todos os tipos de filme e filme composto;
O Express pode ser usado em exibição de cristal líquido, desgaste dura, células solares, proteção de material e anti-corrosão, vidro de construção, camada de filme óptico e decorativo, armazenamento de informações magneto-ópticas, materiais ferromagnéticos e outros campos.

Tipo de revestimento:
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Tipo de revestimento |
Espessura do filme (μm) |
Desempenho acessível |
Aplicação principal |
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Ti/ni/cr/cu/ag, etc. |
0.5-10 |
Melhore a soldabilidade, aprimoreletromagnetic shielding capacidade de aceitação de coragem de cor, etc. |
Comunicações 5G Instituto de Pesquisa. |
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