Visão geral do produto

 

O equipamento de filme fino composto PVD é uma plataforma industrial de deposição a vácuo projetada para depositar filmes finos de múltiplas-camadas, ligas e nanocompósitos. Integrando fontes de pulverização catódica e magnetron em uma única câmara de vácuo, o sistema permite controle preciso sobre a microestrutura do filme, tensão residual e adesão interfacial. Construída para produção contínua e pesquisa e desenvolvimento avançados, a plataforma acomoda substratos metálicos, cerâmicos e poliméricos com geometrias de câmara escaláveis.

 
 
Especificações Técnicas

 

Parâmetro

Faixa de especificações

Pressão final de vácuo

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Pressão de Trabalho

0,1 Pa - 5.0 Pa

Temperatura do substrato

Ambiente de até 800 graus (circuito fechado-controlado por PID)

Fontes de Deposição

Configurável: Sputtering DC/RF Magnetron, DC pulsado, arco catódico filtrado

Uniformidade de Espessura

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Material da Câmara

Aço inoxidável 304L/316L, retificado mecanicamente e eletro-polido (Ra<= 0.4 um)

Integração de fonte de alimentação

Geradores MF (10-100 kHz), geradores RF (13,56 MHz), polarização DC pulsada

Sistema de controle

PLC industrial + IPC com execução automatizada de receitas, monitoramento de intertravamento e registro de dados em lote

 

Processo de Deposição de Composto

O sistema utiliza uma arquitetura híbrida de deposição física de vapor combinando tecnologias de pulverização catódica e magnetron sputtering.

Sinergia-de múltiplas fontes:

A operação simultânea ou sequencial de múltiplos cátodos permite transições de composição abruptas ou graduais na pilha de filmes.

 

Pré-{0}}limpeza por gravação iônica:

Os estágios de limpeza por plasma RF ou DC removem óxidos nativos e contaminantes de superfície antes da deposição para maximizar a adesão do revestimento-ao{1}}substrato.

Controle de Deposição Reativa:

A espectroscopia de emissão óptica (OES) de circuito fechado regula a injeção de gás reativo (O2, N2, C2H2) para manter a estequiometria do composto estável e evitar o envenenamento do alvo.

Polarização do substrato:

Fontes de alimentação de polarização pulsada sincronizadas bombardeiam o filme em crescimento com íons de alta-energia, densificando a microestrutura e adaptando a tensão de compressão residual.

 

Materiais de filme

O equipamento suporta um amplo espectro de materiais alvo para requisitos funcionais personalizados:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Nitretos e carbonetos de metais de transição:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN para resistência ao desgaste e à corrosão.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Sistemas Nanocompósitos e Multicamadas:

Nanocamadas de TiSiN, AlTiSiN e metal/cerâmica para extrema dureza e estabilidade térmica em altas-temperaturas.

 
PVD Composite Thin Film System

Óxidos condutores transparentes (TCO):

ITO, AZO, IGZO para aplicações optoeletrônicas e fotovoltaicas.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Metais puros e ligas:

Ti, Cr, Al, Cu, Aço Inoxidável, NiCr para contato elétrico e camadas de barreira de difusão.

 
Aplicativos
 
 
 

Ferramentas de corte de precisão:

Deposição de revestimentos super{0}}duros e de baixo{1}}atrito (por exemplo, TiAlN) em pastilhas de metal duro, brocas e fresas-de topo para prolongar a vida útil operacional sob altas cargas térmicas.

 
 

Componentes automotivos:

Películas de-redução de atrito e resistentes ao desgaste-em anéis de pistão, peças de injeção de combustível e conjuntos de engrenagens.

 
 

Optoeletrônica e displays:

Camadas de óxido condutor de baixa-resistividade e alta{1}}transmissão para painéis de toque e substratos de células solares.

 
 

Dispositivos Médicos:

Revestimentos biocompatíveis e{0}}resistentes ao desgaste em instrumentos cirúrgicos e implantes ortopédicos.

 

 

Personalização e configuração do sistema

As configurações de engenharia são adaptadas às restrições específicas das instalações de produção e às receitas do processo:

Dimensionamento da Câmara:

Opções de câmaras cilíndricas ou retangulares que vão desde sistemas de lote de pesquisa e desenvolvimento (500 mm de diâmetro) até sistemas de bloqueio de carga de produção em grande-escala-(mais de 1.000 mm).

01

Seleção do conjunto de bombeamento:

Combinação de sopradores de raízes, bombas turbomoleculares e bombas criogênicas com base nos tempos de inatividade necessários da bomba e nos perfis de carga de gás.

02

Fixação de substrato:

Estágios de rotação planetária personalizados, rotação de satélite de três{1}}eixos ou módulos{2}}rolo a rolo projetados para geometrias 3D complexas ou redes contínuas.

03

Nível de automação:

Configurações de carregamento manual semi{0}}automatizadas ou sistemas de transferência a vácuo totalmente automatizados com manuseio robótico de substrato.

04

 

Fabricação e Controle de Qualidade
 

Detecção de vazamento:

Cada câmara de vácuo é submetida a testes de vazamento com espectrômetro de massa de hélio até um limite de <1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.

Inspeção de solda:

As soldas laterais-a vácuo são soldadas por TIG, retificadas e polidas, seguidas de inspeção por-raio X ou corante penetrante mediante solicitação.

Conformidade elétrica e de segurança:

Painéis de controle construídos de acordo com as normas NFPA 79 ou CE/IEC, apresentando intertravamentos de hardware para fluxo de água, pressão de gás e segurança elétrica.

Teste de aceitação de fábrica (FAT):

Os testes pré{0}}de envio incluem ciclos contínuos de simulação-de 72-horas, verificação de desempenho de vácuo e teste de deposição de revestimento usando receitas especificadas pelo cliente.

 

 

Instalação e suporte técnico

Diretrizes para preparação do local:Documento abrangente de requisitos de instalação forneceu detalhes de interfaces de serviços públicos (fluxo/pressão de água de resfriamento, carga elétrica, ar comprimido, exaustão).


Comissionamento-no local:Os engenheiros de serviço de campo executam alinhamento mecânico, verificações de vazamento de vácuo, conexões elétricas{0}}e calibração inicial.


Ajuste de receita de processo:Colaboração-no local com metalúrgicos clientes e engenheiros de processo para definir os parâmetros desejados de espessura, tensão e dureza do filme.


Suporte ao ciclo de vida:Interface de diagnóstico remoto, estoque localizado de peças de reposição e programas de manutenção preventiva programada.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

Perguntas frequentes

 

 

P: Qual é o tempo típico-de parada da bomba para atingir a pressão base?

R: Utilizando configurações padrão de alto-vácuo (bombas turbomoleculares ou criogênicas combinadas com bombas de apoio de raízes/palhetas rotativas), a câmara evacua da atmosfera para < 5,0 x 10^-4 Pa dentro de 25 a 40 minutos, dependendo do volume da câmara e da carga de liberação de umidade.

P: O sistema pode alternar entre os modos de pulverização catódica reativo e não{0}}reativo automaticamente?

R: Sim. O software de controle PLC gerencia controladores de fluxo de massa (MFCs) e saídas de fontes de alimentação dinamicamente, permitindo a transição automatizada entre a deposição metálica e a formação de compostos reativos dentro de um único ciclo de processo.

P: Quais geometrias de substrato o estágio de rotação planetária padrão pode acomodar?

R: O acessório planetário padrão de 3 eixos lida com componentes 3D complexos, como ferramentas de corte e válvulas automotivas. Gabaritos personalizados podem ser projetados para substratos planos de até 400 mm x 400 mm ou rolos cilíndricos.

P: Como você garante a uniformidade da espessura do filme em lotes grandes?

R: A uniformidade é alcançada por meio da distância otimizada do cátodo-ao-substrato, simulação de perfil de campo magnético localizado e rotação planetária de vários-eixos. A uniformidade real é verificada através de testes de amostras testemunhadas durante o FAT.

P: Quais são os requisitos de utilidade para uma unidade industrial padrão?

R: Normalmente requer 380 V/480 V trifásico (50/60 Hz), fornecimento de água de resfriamento refrigerada (aproximadamente 15 a 20 graus a 3 a 4 bar), ar comprimido (6 bar) para válvulas pneumáticas e ar limpo e seco ou nitrogênio para ventilação. As cargas exatas variam de acordo com a configuração da fonte de alimentação.

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