Visão geral do produto
O equipamento de filme fino composto PVD é uma plataforma industrial de deposição a vácuo projetada para depositar filmes finos de múltiplas-camadas, ligas e nanocompósitos. Integrando fontes de pulverização catódica e magnetron em uma única câmara de vácuo, o sistema permite controle preciso sobre a microestrutura do filme, tensão residual e adesão interfacial. Construída para produção contínua e pesquisa e desenvolvimento avançados, a plataforma acomoda substratos metálicos, cerâmicos e poliméricos com geometrias de câmara escaláveis.
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Especificações Técnicas
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Parâmetro |
Faixa de especificações |
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Pressão final de vácuo |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite) |
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Pressão de Trabalho |
0,1 Pa - 5.0 Pa |
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Temperatura do substrato |
Ambiente de até 800 graus (circuito fechado-controlado por PID) |
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Fontes de Deposição |
Configurável: Sputtering DC/RF Magnetron, DC pulsado, arco catódico filtrado |
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Uniformidade de Espessura |
< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier |
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Material da Câmara |
Aço inoxidável 304L/316L, retificado mecanicamente e eletro-polido (Ra<= 0.4 um) |
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Integração de fonte de alimentação |
Geradores MF (10-100 kHz), geradores RF (13,56 MHz), polarização DC pulsada |
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Sistema de controle |
PLC industrial + IPC com execução automatizada de receitas, monitoramento de intertravamento e registro de dados em lote |
Processo de Deposição de Composto
O sistema utiliza uma arquitetura híbrida de deposição física de vapor combinando tecnologias de pulverização catódica e magnetron sputtering.
Sinergia-de múltiplas fontes:
A operação simultânea ou sequencial de múltiplos cátodos permite transições de composição abruptas ou graduais na pilha de filmes.
Pré-{0}}limpeza por gravação iônica:
Os estágios de limpeza por plasma RF ou DC removem óxidos nativos e contaminantes de superfície antes da deposição para maximizar a adesão do revestimento-ao{1}}substrato.
Controle de Deposição Reativa:
A espectroscopia de emissão óptica (OES) de circuito fechado regula a injeção de gás reativo (O2, N2, C2H2) para manter a estequiometria do composto estável e evitar o envenenamento do alvo.
Polarização do substrato:
Fontes de alimentação de polarização pulsada sincronizadas bombardeiam o filme em crescimento com íons de alta-energia, densificando a microestrutura e adaptando a tensão de compressão residual.
Materiais de filme
O equipamento suporta um amplo espectro de materiais alvo para requisitos funcionais personalizados:

Nitretos e carbonetos de metais de transição:
TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN para resistência ao desgaste e à corrosão.

Sistemas Nanocompósitos e Multicamadas:
Nanocamadas de TiSiN, AlTiSiN e metal/cerâmica para extrema dureza e estabilidade térmica em altas-temperaturas.

Óxidos condutores transparentes (TCO):
ITO, AZO, IGZO para aplicações optoeletrônicas e fotovoltaicas.

Metais puros e ligas:
Ti, Cr, Al, Cu, Aço Inoxidável, NiCr para contato elétrico e camadas de barreira de difusão.
Aplicativos
Ferramentas de corte de precisão:
Deposição de revestimentos super{0}}duros e de baixo{1}}atrito (por exemplo, TiAlN) em pastilhas de metal duro, brocas e fresas-de topo para prolongar a vida útil operacional sob altas cargas térmicas.
Componentes automotivos:
Películas de-redução de atrito e resistentes ao desgaste-em anéis de pistão, peças de injeção de combustível e conjuntos de engrenagens.
Optoeletrônica e displays:
Camadas de óxido condutor de baixa-resistividade e alta{1}}transmissão para painéis de toque e substratos de células solares.
Dispositivos Médicos:
Revestimentos biocompatíveis e{0}}resistentes ao desgaste em instrumentos cirúrgicos e implantes ortopédicos.
Personalização e configuração do sistema
As configurações de engenharia são adaptadas às restrições específicas das instalações de produção e às receitas do processo:
Dimensionamento da Câmara:
Opções de câmaras cilíndricas ou retangulares que vão desde sistemas de lote de pesquisa e desenvolvimento (500 mm de diâmetro) até sistemas de bloqueio de carga de produção em grande-escala-(mais de 1.000 mm).
01
Seleção do conjunto de bombeamento:
Combinação de sopradores de raízes, bombas turbomoleculares e bombas criogênicas com base nos tempos de inatividade necessários da bomba e nos perfis de carga de gás.
02
Fixação de substrato:
Estágios de rotação planetária personalizados, rotação de satélite de três{1}}eixos ou módulos{2}}rolo a rolo projetados para geometrias 3D complexas ou redes contínuas.
03
Nível de automação:
Configurações de carregamento manual semi{0}}automatizadas ou sistemas de transferência a vácuo totalmente automatizados com manuseio robótico de substrato.
04
Fabricação e Controle de Qualidade
Detecção de vazamento:
Cada câmara de vácuo é submetida a testes de vazamento com espectrômetro de massa de hélio até um limite de <1 x 10^-10 Pa * m^3 / s.
Inspeção de solda:
As soldas laterais-a vácuo são soldadas por TIG, retificadas e polidas, seguidas de inspeção por-raio X ou corante penetrante mediante solicitação.
Conformidade elétrica e de segurança:
Painéis de controle construídos de acordo com as normas NFPA 79 ou CE/IEC, apresentando intertravamentos de hardware para fluxo de água, pressão de gás e segurança elétrica.
Teste de aceitação de fábrica (FAT):
Os testes pré{0}}de envio incluem ciclos contínuos de simulação-de 72-horas, verificação de desempenho de vácuo e teste de deposição de revestimento usando receitas especificadas pelo cliente.
Diretrizes para preparação do local:Documento abrangente de requisitos de instalação forneceu detalhes de interfaces de serviços públicos (fluxo/pressão de água de resfriamento, carga elétrica, ar comprimido, exaustão).
Comissionamento-no local:Os engenheiros de serviço de campo executam alinhamento mecânico, verificações de vazamento de vácuo, conexões elétricas{0}}e calibração inicial.
Ajuste de receita de processo:Colaboração-no local com metalúrgicos clientes e engenheiros de processo para definir os parâmetros desejados de espessura, tensão e dureza do filme.
Suporte ao ciclo de vida:Interface de diagnóstico remoto, estoque localizado de peças de reposição e programas de manutenção preventiva programada.

Perguntas frequentes
Somos-conhecidos como um dos principais fabricantes e fornecedores de equipamentos de filme fino composto de pvd na China. Se você vai comprar equipamento de filme fino composto pvd personalizado feito na China, bem-vindo para obter a lista de preços de nossa fábrica. Para consulta de preços, contacte-nos.
