Visão geral do produto
O equipamento de filme fino de evaporação assistida por íons-série IAE-integra deposição física de vapor (PVD) com bombardeio por feixe de íons-em tempo real. Ao direcionar íons energéticos para o substrato durante a evaporação térmica ou por feixe de elétrons, o sistema transfere impulso para os adátomos em condensação, reestruturando a microestrutura do filme em crescimento.
Esta transferência de energia cinética elimina vazios colunares, suprime a absorção de umidade e bloqueia o índice de refração contra mudanças na umidade ambiente. Construída para operação contínua em vários{1}}turnos em linhas de produção ópticas e de semicondutores, a plataforma lida com substratos que vão desde ópticas de laser de alta-precisão até wafers de silício.
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Equipamento-de evaporação a vácuo assistida por íonsO sistema de evaporação a vácuo-assistida por íons integra fontes de evaporação térmica de alto-vácuo ou de feixe de elétrons-com uma fonte de íons tipo Kaufman-ou End{4}}Hall. Ao bombardear o...Ver mais -
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Sistema-de deposição de filme fino assistido por íonsO sistema de deposição de filme fino assistido por íons integra evaporação térmica/feixe de elétrons-de vários bolsos com uma fonte de íons do tipo End-Hall ou Kaufman-de alto desempenho. Durante...Ver mais -
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Equipamento de evaporação assistida por feixe de íonsO sistema IBAE combina feixe-de elétrons ou evaporação térmica com uma fonte integrada de íons-de feixe amplo. O bombardeio simultâneo de íons durante o crescimento do filme transfere energia...Ver mais -
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Equipamento-de deposição de filme fino assistido por íonsO equipamento de deposição de filme fino assistido por íon-série IA-integra evaporação térmica por feixe de-elétrons com uma fonte de íons Kaufman ou End-Hall. O bombardeio energético de íons...Ver mais -
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Sistema de filme fino de evaporação-assistida por íonsO sistema de filme fino de-evaporação assistida por íons (IAE) integra deposição física de vapor (PVD) com bombardeio energético por feixe de íons. Durante a evaporação térmica ou por feixe de...Ver mais -
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Equipamento de filme fino-de evaporação assistida por íonsSistema de evaporação assistida por íons-de grau industrial (IAE) que integra evaporação por feixe de elétrons-multi-bolsos com uma fonte de feixe de íons energético (configuração End-Hall ou...Ver mais
Especificações Técnicas
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Parâmetro |
Especificação |
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Pressão Base Final |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (achieved within 45 mins via cryogenic/turbomolecular pumping) |
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Fontes de evaporação |
Pistola de feixe E-multi{0}}bolso (4 × 15 cc a 40 cc) e fontes térmicas resistivas |
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Tipo de fonte de íons |
Fonte de íons do tipo Gridless End-Hall / Kaufman-(tensão do feixe: 50 – 1.500 V, corrente de íons: 0,1 – 3 A) |
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Controle de espessura do filme |
Microbalança de cristal de quartzo (QCM) + Sistema de monitoramento óptico (OMS), precisão ± 0,1 nm |
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Fixação de substrato |
Dispositivo de rotação planetária, raio da cúpula personalizado para a geometria do substrato |
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Aquecimento de substrato |
Conjunto de aquecedores radiantes, até 350 graus com uniformidade PID de ± 2 graus |
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Arquitetura de Controle |
PLC + PC industrial, execução automatizada de receitas, registro de dados compatível com SECS/GEM |
Processo-de deposição assistida por íons
Geração de Vapor:
O material é evaporado do cadinho de feixe de e-ou do barco térmico em taxas de deposição controladas (0,1 – 2,0 nm/s).
01
Transferência de impulso:
Íons energéticos (Ar⁺, O⁺) bombardeiam a superfície do substrato simultaneamente com o fluxo de vapor que chega do feixe E-ou da fonte térmica.
02
Modificação da microestrutura:
O impacto dos íons melhora a mobilidade da superfície do adátomo, evitando o crescimento de grãos colunares e alcançando uma-densidade aparente (densidade de empacotamento > 99%).
03
Correção Estequiométrica:
A assistência de íons reativos (O₂) garante a oxidação completa de sub{0}}óxidos em filmes de óxido metálico (por exemplo, Ta₂O₅, Nb₂O₅, SiO₂), eliminando bandas de absorção no espectro UV-NIR.
04
Materiais de filme
Óxidos:
SiO₂, Ta₂O₅, TiO₂, Nb₂O₅, HfO₂ (estabilidade de alto índice de refração para filtros ópticos).
Fluoretos:
MgF₂, LaF₃ (camadas de baixo índice de refração para revestimentos AR de banda larga).
Metais:
Al, Ag, Au, Ti (Camadas de adesão e refletores metálicos).
Aplicativos
Laser e óptica de precisão:
Filtros passa-banda, espelhos dicróicos e revestimentos de proteção a laser que exigem alto limiar de dano induzido por laser (LIDT, na sigla em inglês) e mudança espectral zero sob estresse térmico.
Vidro de cobertura LiDAR:
Filmes finos duráveis, anti{0}}reflexos (AR) e anti{1}}sujeira, resistentes às intempéries externas.
Embalagem de semicondutores:
Camadas de encapsulamento de barreira-de umidade e almofadas de contato metálicas depositadas em baixas temperaturas do substrato.
Sensores Biomédicos:
Revestimentos de interferência óptica biocompatíveis para chips microfluídicos de diagnóstico.
Personalização
As câmaras e os layouts internos são projetados para áreas de fabricação e requisitos de processo específicos:
Dimensões da Câmara:
Escalável desde unidades de pesquisa e desenvolvimento de R=600 mm até sistemas de produção de alta capacidade de=1200 mm.
Pacotes de bombeamento:
Configurável com bombas turbomoleculares Maglev, bombas criogênicas e linhas de suporte de soprador Roots com base nos requisitos de carga de gás.
Integração de Fonte:
Configurações de fonte-dupla de íons ou de deposição-de co para ligas complexas e filmes de gradiente multi-camadas.
Nível de automação:
Integração com sistemas automatizados de transferência de substrato para salas limpas (ferramentas EFEM / Vacuum cluster).
Controle de qualidade
Detecção de vazamento:
Cada câmara de vácuo é testada-para vazamento de hélio usando um espectrômetro de massa (taxa de vazamento < 1,0 × 10⁻¹⁰ Pa·m³/s).
Rastreabilidade de componentes:
Válvulas de vácuo, controladores de fluxo de massa (MFCs) e fontes de alimentação provenientes de marcas industriais qualificadas de nível 1 (MKS, Inficon, VAT).
Teste de aceitação de fábrica (FAT):
Execute-testes para verificar a pressão base, a curva de bombeamento, a estabilidade da fonte e a resistência contínua de câmara vazia por 24-horas antes do envio.
Validação Metrológica:
Corridas de amostras verificadas via espectrofotômetro (transmitância/refletância) e microscopia de força atômica (rugosidade superficial Ra < 0,5 nm).
Instalação e suporte técnico
Guia de preparação do local:
Requisitos abrangentes de serviços públicos fornecidos antes da entrega (fluxo/pressão de água de resfriamento, ar comprimido em sala limpa, distribuição de energia, ventilação de exaustão).
Comissionamento chave na mão:
Os engenheiros de serviço de campo cuidam da montagem mecânica, do cozimento a vácuo-, da calibração do feixe de íons e da aprovação inicial da receita do processo-no-local.
Treinamento do Operador:
Treinamento prático-estruturado que abrange manutenção de rotina, segurança de vácuo, operação de software e solução de problemas.
Suporte ao ciclo de vida:
Interface de diagnóstico remoto para solução rápida de problemas de software; estoque regional de itens críticos de desgaste (filamentos, cadinhos, blindagens) despachados em 48 horas.
Perguntas frequentes
Somos-conhecidos como um dos principais fabricantes e fornecedores de equipamentos de filme fino de evaporação-assistida por íons na China. Se você for comprar equipamento de filme fino de evaporação assistida por íons personalizado feito na China, bem-vindo para obter a lista de preços de nossa fábrica. Para consulta de preços, contacte-nos.
