Equipamento de filme fino de arco catódico

Equipamento de filme fino de arco catódico

Detalhes
Sistema de deposição física de vapor (PVD) que utiliza arcos elétricos localizados de baixa-tensão e alta{1}}corrente para vaporizar alvos catódicos sólidos em plasma totalmente ionizado. A alta taxa de ionização (40%-80%) gera uma ligação densa em nível-atômico e alta tensão de compressão, permitindo deposição de alta-taxa de revestimentos decorativos e resistentes ao desgaste-em aço rápido (HSS), ferramentas de corte de metal duro, componentes automotivos e dispositivos médicos.
Classificação de produto
Equipamento de filme fino para evaporação de arco
 
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Descrição
Parâmetros técnicos

Sistema de deposição física de vapor (PVD) que utiliza arcos elétricos localizados de baixa-tensão e alta{1}}corrente para vaporizar alvos catódicos sólidos em plasma totalmente ionizado. A alta taxa de ionização (40%-80%) gera uma ligação densa em nível-atômico e alta tensão de compressão, permitindo deposição de alta-taxa de revestimentos decorativos e resistentes ao desgaste-em aço rápido (HSS), ferramentas de corte de metal duro, componentes automotivos e dispositivos médicos.

 

Especificações Técnicas

 

Parâmetro

Faixa de especificação/detalhes

Dimensões da Câmara

Volume interno personalizado (Φ 800 × 1000 mm a Φ 1500 × 1600 mm, SUS304/SUS316L com-parede dupla-resfriada a água)

Pressão Final

Menor ou igual a 5,0 × 10⁻⁴ Pa (configuração turbomolecular e de raízes/bomba de apoio rotativa)

Pressão de Trabalho

0,1 Pa ~ 2,0 Pa (Ar, N₂, C₂H₂, O₂)

Fontes de arco catódico

4 a 12 fontes distribuídas circulares/retangulares filtradas ou padrão com direção magnética independente

Viés de substrato

Polarização CC pulsada (0 a -1000 V ajustável, 10–100 kHz)

Sistema de aquecimento

Aquecedores radiativos de quartzo; temperatura máxima de cozimento 500 graus (uniformidade de ± 5 graus)

Arquitetura de Controle

CLP Siemens + PC Industrial (IPC); execução automatizada de receitas e substituição manual de hardware

Fornecimento Elétrico

Trifásico, 380 V/480 V, 50 Hz/60 Hz (configurado de acordo com os padrões regionais)

 

Principais recursos


Alta eficiência de ionização:A taxa de ionização plasmática chega a 40%-80%, garantindo adesão superior do filme-ao substrato.


Cátodos Modulares:A montagem-de destino de mudança rápida minimiza o tempo de inatividade para manutenção; compatível com cátodos cilíndricos planos e rotativos.


Controle de gás-de circuito fechado:Os controladores de fluxo de massa MKS mantêm pressões parciais de gases reativos precisas para filmes compostos (TiAlN, TiCN).


Rotação planetária multi{0}}eixo:Unidades de rotação e revolução personalizadas garantem uniformidade de espessura (±5%) em geometrias 3D complexas.


Operação em modo duplo-:Compatível com evaporação de arco CC e integração de pulverização catódica pulsada para arquiteturas multi-camadas.

 

Configuração do sistema de vácuo


Bombas de desbaste:Combinação de bombas de palhetas rotativas e raízes para bombeamento rápido-da atmosfera até 10 Pa.


Bomba de alto vácuo:Bomba turbomolecular levitada magneticamente (1600–3200 L/s) garantindo pressão de base-livre de hidrocarbonetos.


Válvulas e Medição:Válvulas pneumáticas de alto-vácuo com Pirani e intertravamentos de ionização de cátodo frio para evitar refluxo de óleo.


[Guia visual para produtor web]:Insira uma foto esquemática ou clara do layout do encanamento de vácuo, destacando o posicionamento da bomba turbomolecular e da válvula gaveta pneumática.

 

Materiais de evaporação e compatibilidade de substrato


Alvos catódicos padrão (pureza maior ou igual a 99,95%)
Metais de Transição:
Ti, Cr, Zr, Al, TiAl (proporções atômicas 50/50, 33/67), CrAl, W, Nb, Si.


Ligas e Compostos:Grafite (para camadas intermediárias DLC), aço inoxidável.


Compatibilidade e pré-tratamento do substrato-
Materiais:
WC-Ferramentas de co-corte, fresas, broches, matrizes de estampagem, moldes de injeção, ligas de titânio (Grau 5) e aço inoxidável.


Pré-tratamento:Desengraxamento com solvente ultrassônico e limpeza por bombardeio iônico in-situ (gravação com plasma Ar⁺) dentro da câmara antes da deposição.

 

Aplicativos


Ferramentas de corte e conformação:Revestimentos de TiN, TiAlN e AlCrN aumentam a dureza da superfície para 3.000–3.500 HV, suprimindo crateras térmicas e desgaste abrasivo.


Componentes automotivos:Revestimentos-redutores de atrito para anéis de pistão, pinos de injeção de combustível e componentes de engrenagens.


Implantes médicos:Revestimentos duros biocompatíveis de TiN e ZrN em substituições de articulações ortopédicas e parafusos cirúrgicos.


Ferragens decorativas:Produção de espectro de cores (latão dourado, ouro rosa, preto bronze, cinza titânio) por meio de ajuste de gás reativo.

 

Opções de personalização


Geometria da Câmara:Configurações de carregamento vertical (montado-no poço ou no chão-) ou carregamento frontal-horizontal.


Configuração de origem:Fontes de duto magnético de arco catódico filtrado (FAC) para eliminar macropartículas para eletrônica óptica ou de precisão.


Automação:Braços de carregamento robóticos, integração de acoplamento AGV e protocolos de registro de dados MES.

 

Controle de qualidade e testes de fábrica


Detecção de vazamento:Teste de espectrômetro de massa de hélio em todas as câmaras e cordões de solda (menor ou igual a 1 × 10⁻⁹ Pa·m³/s).


Segurança Elétrica:Resistência de isolamento-de alta tensão, continuidade de aterramento e verificação funcional de intertravamento do PLC.


Execução de teste (FAT):Teste de funcionamento a seco contínuo de 72-horas-mais teste de deposição de revestimento padrão avaliado por meio de Calo-test (espessura) e testador de arranhões (aderência).


Pacote de documentação:Esquemas elétricos, diagramas P&ID, códigos-fonte de PLC, certificados de materiais e relatórios FAT.

 

Instalação e suporte técnico


Preparação do local:Desenhos detalhados de layout, métricas de água de resfriamento e especificações de distribuição de energia fornecidas 4 semanas antes do envio.


Comissionamento:Montagem mecânica-no local, calibração de vácuo e entrega de receitas por engenheiros de processo seniores.


Treinamento:Instruções{0}}práticas sobre manutenção de hardware, solução de problemas de vácuo e protocolos de segurança.


Apoiar:Integração remota de software de diagnóstico para solução de problemas de PLC{0}}em tempo real, apoiada por inventário regional de peças de reposição.

 

Perguntas frequentes

 

P: Como o sistema controla as macropartículas (gotículas)?

R: Os sistemas padrão utilizam campos de confinamento magnético otimizados para direcionar rapidamente os pontos de arco. Para aplicações ópticas ou ultra{1}}suaves, integramos dutos magnéticos de arco catódico filtrado (FAC) para filtrar totalmente as gotículas.

P: Qual é a taxa de utilização desejada e o tempo de substituição?

R: As metas planas e circulares atingem 45%-60% de utilização. Os alvos são resfriados-a água e montados por meio de vedações de fixação rápida, permitindo a substituição do alvo em 45 minutos.

P: Quais são os requisitos de utilidade da instalação?

A: Fornecimento de água gelada (8–15 m³/h, 18–22 graus, 0,2–0,3 MPa), ar comprimido (0,6 MPa) e energia industrial trifásica estável.

P: As receitas de processo existentes podem ser transferidas?

R: Sim. A plataforma Siemens IPC permite entrada direta de parâmetros para corrente de arco, tensão de polarização, fluxo de gás e duração para corresponder às receitas industriais existentes.

 

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